Meta AR/VR专利探索更好地控制Micro LED晶片衬底弯曲度
映维网(Nweon)报道了一项名为“Strain management of iii-p micro-led epitaxy towards higher efficiency and low bow”的专利申请。该专利申请介绍了如何通过管理外延层中的应变来控制衬底弯曲度,以提高Micro LED晶片的效率和减小弯曲。通过生长具有压缩应变的特定外延层和具有拉伸应变的其他外延层,可以抵消应变,减小晶片的弯曲。拉伸应变还可以提高p-n结中p侧的势垒,从而提高Micro LED晶片的效率。专利申请还提到了不同材料和层次的应用,并强调通过调节应变水平和厚度来控制衬底弯曲度。该专利申请的目的是改善Micro LED的性能和可靠性,并提高与背板的结合质量。