最新资讯韩国研究团队开发无损光刻技术,实现超高分辨率量子点图案化
2025年,韩国釜山国立大学的Jeongkyun Roh副教授领导的研究团队提出了一种无光刻胶且无损的高分辨率量子点发光二极管图案化方法。该技术通过光交联混合发光层实现超高分辨率,适用于AR、VR和智能眼镜等近眼显示器,满足1000 ppi以上的像素密度要求。这项研究为量子点显示器的商业化桥接了实验室原型与市场需求之间的差距。研究成果已发表于《Advanced Functional Materials》。