Meta专利提出通过氢氮辅助化剂蚀刻AR高折射率光栅的方法
Meta最近提交的一项专利申请描述了一种用于制造倾斜表面浮雕光栅的方法。该方法使用化学辅助反应离子束蚀刻技术,以更有效和更准确的方式在具有高折射率的材料上制造倾斜结构。超高折射率材料可以通过氢离子和/或氮离子的掺杂和/或改性来实现。利用这种方法,倾斜表面浮雕光栅可以在基于波导的人造现实显示设备中使用,以改善视场、提高亮度效率并减少显示伪影。专利申请中还描述了具体的步骤,包括注入反应离子源发生器的气体、提取反应离子束、注入材料层的气体以及对材料层进行物理和化学蚀刻等。材料层可以包括TiOx、LiNbO3、HfOx、TiSiOx、SiC、ZnSe、InGaAs或GaP等超高折射率材料。这项专利技术有望为AR领域的光学显示器带来新的制造方法和技术。