曾获得 CEDEC AWARDS 2012 著述奖的《技术美术入门套件》的修订版《技术美术入门套件 修订版》将于2021年9月下旬发售！
技术美术入门套件 修订版
- 书籍名：技术美术入门套件 修订版
- 刊行预定日：2021年9月下旬
- 作者：曽良 洋介、Marc Salvati、四倉 达夫
- 协力：株式会社オー・エル・エム・デジタル
- 定价：5,500日元（本体5,000日元＋税10%）
- ISBN：978-4-86246-514-6
- 页数：448页
- 发行：株式会社ボーンデジタル
曽良 洋介, Marc Salvati, 四倉 達夫
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书籍特点
之所以无法做出想要的表现，恐怕是基础理论还不够！？
理解 CG 的背景，迈向更进一步的影像表现
看似有却哪里都没有的一本书，弥补了 CG 基础理论与实践之间的空白。
学习理论之后，还可以通过使用 Maya 和 After Effects 的练习题，牢固掌握知识。
本书是将オー・エル・エム・デジタル面向艺术家的内部课程重新编排，并荣获 CEDEC AWARDS 2012 著述奖的《技术美术入门套件》的修订版。
“技术美术”是指理解 CG 的科学与技术背景，并能在实际制作中加以运用的艺术家，或者连接艺术家与工程师的角色。本书精选并解说了对于想成为技术美术的创作者而言往往不足、以及能够迅速掌握的知识领域。在这版修订中，各章内容都更新为最新内容，并追加了包括 Arnold 和 Bifrost 在内的最新技术。此外，还用易懂的插图解释了必要的基础数学和物理，因此即便是上学时稍微偷过懒的人也没问题。书中不仅可以阅读，还准备了练习题，能通过实际使用软件来确认功能，并编写脚本理解其运行方式。
与其只是随便使用软件，不如理解它是如何运作的，这样就会产生新的可能性，以及表现力和艺术构想。让我们从这本书开始学习，迈出成为技术美术的第一步吧？
我自己也算是 TA 的边缘人士，不过我确实很受《技术美术入门套件》的帮助。对于今后想成为 TA 的人、想通过技术内容加深对工具理解的人等，这本书很值得推荐。重新更新的修订版看起来非常不错，请务必去看看。
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曽良 洋介, Marc Salvati, 四倉 達夫
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